我國科學(xué)家研究出一種分米級單晶薄膜的制備新方法
2019年07月10日 9:17 7407次瀏覽 來源： 科學(xué)技術(shù)部網(wǎng)站 分類： 重點(diǎn)新聞
為開辟硅基電子器件之外的新途徑，基于量子材料的新器件研究成為前沿?zé)狳c(diǎn)。作為量子材料的重要分支，二維量子材料厚度只有原子級且量子效應(yīng)顯著，大面積、高質(zhì)量的二維單晶制備是實(shí)現(xiàn)二維器件規(guī)?；瘧?yīng)用的核心關(guān)鍵，然而晶格的非中心反演對稱性給二維單晶生長帶來了極大挑戰(zhàn)。
在量子調(diào)控與量子信息重點(diǎn)專項(xiàng)資助下，北京大學(xué)劉開輝課題組與合作者設(shè)計(jì)出一種具有特殊臺階方向的非中心反演對稱性的單晶晶面Cu（110）/<211>,利用其臺階邊緣與六方氮化硼晶疇中硼型和氮型鋸齒形邊界耦合強(qiáng)度的能量差打破晶疇在襯底表面取向的對稱性，從而實(shí)現(xiàn)對六方氮化硼晶疇單一取向的控制生長，并無縫拼接為分米級單晶薄膜。研究還結(jié)合原位生長技術(shù)與理論計(jì)算對生長過程進(jìn)行了深入動(dòng)力學(xué)研究，提出了全新的生長機(jī)理。該研究工作提供了一種制備二維單晶的普適方法，為二維器件規(guī)?；瘧?yīng)用奠定了基礎(chǔ)。
責(zé)任編輯：郭沛宇
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